安普(成都)抛光材料生产厂家

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德阳地面亮光剂生产,性能稳定,无污染

2021-09-16 12:27:01  595次浏览 次浏览
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在硬化地坪施工过程中,到底要不要用抛光液进行抛光处理呢?在回答这个问题之前,我们先要了解什么是地坪抛光液,地坪抛光液能起到什么作用,才能对这个硬化地坪需不需要抛光液的问题进行客观的分析。

地坪抛光液是一种用来提升硬化地坪亮度的产品,也叫做地坪光亮剂、地坪亮光剂、地坪增亮剂、地坪抛光剂等等,地坪光亮剂具有抗磨损、防刮伤、防刻划的功能。用途非常广泛,可用于水泥制品、大理石、水磨石、耐磨骨料等为基础表面抛光,它的特点就是渗入地坪,在干燥的过程中和混凝土粘结在一起,干燥后经过物理抛光,能赋予地坪超亮的光泽的同时,还能提高表面的防水、防尘、抗污保洁和抗磨性能。

通过上面的介绍,我们在施工硬化地坪时,非常有必要用地坪抛光液进行抛光,因为地坪抛光液不单单只是提高地坪的光泽度,还能提高地面抗渗、防尘、抗污保洁的功能,让地坪更有质感的同时,也能更好的对地面进行养护。可以说硬化地坪使用抛光液进行抛光并非画蛇添足而是锦上添花,让硬化地坪的效果更上一层楼!

B.石蜡

石蜡外观通常为无色透明油状液体,在日光下观察不显荧光;室温下无嗅无味,加热后略有石油臭。除蓖麻油外,石蜡可与大多数脂肪油能任意混合,樟脑、薄荷脑及大多数天然或人造麝香均能被溶解。在产品设计中,石蜡则是作为乳化剂、分散剂、增塑剂、润滑脂,起到降低粘性、助溶助渗的作用;使用石蜡作用助剂,也有利于进行抛光工作。

化学机械抛光

这两个概念主要出半导体加工过程中,初的半导体基片(衬底片)抛光沿用机械抛光、例如氧化镁、氧化锆抛光等,但是得到的晶片表面损伤是极其严重的。直到60年代末,一种新的抛光技术——化学机械抛光技术(CMP Chemical Mechanical Polishing )取代了旧的方法。CMP技术综合了化学和机械抛光的优势:单纯的化学抛光,抛光速率较快,表面光洁度高,损伤低,平整性好,但表面平整度和平行度差,抛光后表面一致性差;单纯的机械抛光表面一致性好,表面平整度高,但表面光洁度差,损伤层深。化学机械抛光可以获得较为平整的表面,又可以得到较高的抛光速率,得到的平整度比其他方法高两个数量级,是能够实现全局平面化的有效方法。

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