抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂，具有良好的去油污，防锈，清洗和增光性能，并能使金属制品超过原有的光泽。本产品性能稳定、，对环境无污染等作用。

硅片的化学机械抛光过程是以化学反应为主的机械抛光过程，要获得质量好的抛光片，必须使抛光过程中的化学腐蚀作用与机械磨削作用达到一种平衡。如果化学腐蚀作用大于机械抛光作用，则抛光片表面产生腐蚀坑、桔皮状波纹。如果机械磨削作用大于化学腐蚀作用，则表面产生高损伤层。

氧化硅抛光液（CMP抛光液）是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度低金属离子型抛光产品。

广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，如：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。

1、 增加生产量， 操作人员不再需要中断抛光工作,可以自动的控制抛光液的喷涂。

2、 节省操作时间,提高产能。

3、 节省清洗时间， 抛光液是水性的配方, 抛光后工程的清洗工序更容易,可以节省的清洗时间。

4、 抛光轮寿命增加， 喷涂液体研磨剂对研磨轮之轮缘表面温度有冷却作用。

5、 大大减低 研磨轮的损耗， 从而增加研磨轮的寿命。

6、 增加产品的稳定性能， 避免了人手操作的不确定性。